光刻胶市场前景怎么样?2021市场规模预测达19亿美元

  据电子材料市场研究与咨询服务公司TECHCET预测,2021年半导体制造所需的光刻胶市场规模将同比增长11%,达到19亿美元。从抗蚀剂类型来看,2020年和2021年的光刻胶市场,用于KrF和浸入式ArF的光刻胶市场较高。对于EUV,应用范围正在从逻辑芯片扩展到DRAM。2021年的EUV光刻胶市场将超过2000万美元,并且此后还将继续增长,预计到2025年将超过2亿美元。

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  据科技媒体3月12日 报道,韩国Dongjin Semichem和ENF Technology两家公司均已向客户三星电子和SK海力士提出关于稀释剂的涨价要求,据悉,两家韩国公司计划从四月份起将稀释剂的价格提高50%。

  稀释剂主要用于去除晶圆和显示器制造过程中喷涂的光阻剂残余物。制作过程是先将环氧丙烷(PO)加工成丙二醇单甲醚(PGME)和丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA),之后再制为稀释剂。

  从2020年初到年底,环氧丙烷的价格上涨了90%。同期丙二醇单甲醚和丙二醇甲基醚乙酸酯的价格也上涨了80%。除此之外,受美国得州突发暴风雪影响,陶氏化学(Dow Chemical)关闭了位于当地的环氧丙烷生产工厂,从而导致该种材料价格进一步上涨。

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