光刻胶市场前景怎么样？2021市场规模预测达19亿美元(2)

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　　上海新阳（300236）今日公告，由上海芯刻微材料技术有限责任公司委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

　　3月11日，芯刻微公司向盛吉盛支付10%首期货款购入该光刻机，剩余90%六个月内付清。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。

　　上海新阳表示，集成电路制造用ArF湿法光刻胶产品技术要求高、投资需求大，公司为加速集成电路制造用高端光刻胶全品类的国产化进程，减少上市公司业绩压力，通过参股子公司芯刻微进行Ar湿法光刻胶的研发，并与协议各方承诺未来通过向上市公司进行股权转让或技术转让等方式避免可能的同业竞争。